seminario web
Osmósis inversa de alta recuperación para aguas residuales de la industria de semiconductores: retos y soluciones
Vea esta grabación bajo demanda en la que analizamos cómo las fábricas de semiconductores están llevando al límite los sistemas de suministro de agua.
A medida que aumentan los objetivos de reutilización y se endurecen las restricciones de vertido, los sistemas convencionales de ósmosis inversa (RO) tienen dificultades para seguir el ritmo. En esta sesión se analizará cómo la ósmosis inversa de alta recuperación puede superar esas limitaciones sin comprometer la fiabilidad.
Lo que aprenderá:
- Por qué los sistemas de ósmosis inversa convencionales fallan en condiciones de aguas residuales de la industria de semiconductores con alta tasa de recuperación
- Las causas fundamentales de la formación de incrustaciones, las acumulaciones de residuos y la inestabilidad en entornos de fabricación reales
- Cómo la PFRO permite un funcionamiento estable en condiciones extremas de SDI, TOC y variabilidad
- Formas prácticas de aumentar las tasas de recuperación sin aumentar el tiempo de inactividad ni el riesgo
- Lo que revelan las implementaciones reales en fábricas sobre el rendimiento, el tiempo de actividad y la recuperación total
Amit Meninger, Director de la Unidad de Negocio de Semiconductores
Oren Yogev, Jefe del equipo de Ingeniería de Procesos de Semiconductores
Ingrese sus datos para escuchar el seminario web y leer las preguntas frecuentes:
Matan Alper, Gerente de Producto y especialista en Tratamiento de Aguas Industriales
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